लेड डाइऑक्साइड टाइटेनियम एनोड

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1. बैटरी वोल्टेज लेड आधारित एनोड से कम है: 0.05V-0.1V;

2. इलेक्ट्रोड अपेक्षाकृत हल्का और संचालित करने में आसान है।

3. लंबे समय तक सेवा जीवन, सीसा-आधारित मिश्र धातुओं का 1 - 2 गुना।

4. TiO2 नैनोकण कोटिंग सब्सट्रेट के साथ अच्छी तरह से संयुक्त है, जो इसे उच्च संक्षारणरोधी प्रदर्शन और लंबे समय तक सेवा जीवन प्रदान करती है;

5. उच्च वर्तमान घनत्व और उच्च उत्पादन क्षमता;

6. विभिन्न आकारों और आकृतियों को वास्तविक आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है;

7. इलेक्ट्रोड की गतिविधि खो जाने के बाद, सब्सट्रेट को बार-बार लेपित किया जा सकता है, जिससे सामग्री की लागत बचती है।

इलेक्ट्रोप्लेटिंग लेड डाइऑक्साइड के लिए कई प्लेटिंग समाधान प्रस्तावित किए गए हैं, जिनमें क्षारीय लेड टार्ट्रेट, न्यूट्रल लेड परक्लोरेट और अम्लीय लेड नाइट्रेट पर आधारित समाधान शामिल हैं। लेड नाइट्रेट स्नान को प्राथमिकता दी जाती है क्योंकि इसे लंबे चढ़ाना चक्रों पर आसानी से नियंत्रित किया जा सकता है और यह परिचालन स्थितियों की अपेक्षाकृत विस्तृत श्रृंखला में उच्च गुणवत्ता वाले जमा देता है।

विशिष्ट स्नान संरचना सामग्री हैं:

लेड नाइट्रेट, Pb(NO3)2 250-350 गैलन
कॉपर नाइट्रेट, Cu(-NO3)2'H,O 1.5-4.0gpl
*सर्फ़ेक्टेंट 0.5-2.0gpl
*नॉनऑनिक प्रकार के एल्काइलफेनोक्सीपॉलीऑक्सीएथिलीन इथेनॉल को प्राथमिकता दी जाती है, जैसे "इगेपाल सीओ-880" (जनरल डाई कॉर्पोरेशन द्वारा ट्रेडमार्क)।

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कैथोड पर सीसे के जमाव को रोकने के लिए कॉपर नाइट्रेट मिलाया जाता है, जो कार्बन, ग्रेफाइट या कॉपर हो सकता है। उपयुक्त सर्फेक्टेंट यह सुनिश्चित करते हैं कि लेड डाइऑक्साइड उच्च शक्ति, घनत्व और सतह की चिकनाई के साथ जमा हो। अन्य योजक जैसे निकल नाइट्रेट और सोडियम फ्लोराइड भी प्रस्तावित किए गए हैं। ऐसा कहा जाता है कि 35% हाइड्रोजन पेरोक्साइड की नियमित मिलावट एनोडाइजिंग दक्षता को 85% से ऊपर बनाए रखने में मदद करती है। उपयोग की गई बैटरी के प्रवाह में n{6}एमिल अल्कोहल मिलाकर, उच्च गुणवत्ता वाले लेड डाइऑक्साइड जमा के उत्पादन को बनाए रखने के लिए प्लेटिंग बाथ का पुनर्जनन भी प्राप्त किया जा सकता है। n-पेंटानॉल पृथक तरल परत में अवशिष्ट सर्फेक्टेंट और उसके परिवर्तित उत्पादों को निथारित करके हटा देता है। फिर पुनर्जीवित चढ़ाना समाधान में सर्फेक्टेंट की एक ताजा मात्रा डाली जाती है।

प्रारंभिक चढ़ाना समाधान का पीएच मान लगभग 3.5 है। एनोडिक लेड डाइऑक्साइड चढ़ाना प्रक्रिया के दौरान, पीएच मान को आमतौर पर लेड ऑक्साइड को बार-बार जोड़कर 2 से 4 की सीमा में नियंत्रित किया जाता है। 0.016 से 0.032 ए/सेमी2 (15 से 30 ए/वर्ग फीट) के एनोडिक वर्तमान घनत्व और 70'सी तापमान पर स्नान का संचालन करके 2.5 सेमी या अधिक मोटी मजबूत, घने सीसा डाइऑक्साइड जमा प्राप्त किया जा सकता है। प्लेटिंग बाथ में अशुद्धियाँ, जैसे लोहा या कोबाल्ट यौगिक, लेड डाइऑक्साइड जमा की ताकत, घनत्व और सतह की चिकनाई को काफी कम कर सकते हैं।

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अम्लीय नाइट्रिक एसिड स्नान में, क्षार के विघटन के कारण लोहे या स्टील सब्सट्रेट की सतह पर सीसा डाइऑक्साइड जमा होना मुश्किल होता है। स्नान पीएच को 4 या उससे अधिक पर बनाए रखकर इस विघटन प्रभाव को कम किया जा सकता है। प्लेटिंग बाथ के पीएच को 2 और 4 के बीच सावधानीपूर्वक नियंत्रित करके, निकल एक संतोषजनक एनोड सब्सट्रेट है। एनोड सब्सट्रेट जो अनिवार्य रूप से स्नान की अम्लता से स्वतंत्र होते हैं वे टैंटलम, प्लैटिनम {{6}लेपित टैंटलम, कार्बन और ग्रेफाइट हैं। इलेक्ट्रोप्लेटिंग के आधार के रूप में टैंटलम धातु का यह भी लाभ है कि लेड डाइऑक्साइड एनोड के साथ बाद के इलेक्ट्रोलिसिस के दौरान, टैंटलम तेजी से ध्रुवीकृत होता है और फिर एक निष्क्रिय, गैर संक्षारक भराव के रूप में कार्य करता है। अन्य धातु आधार, जैसे निकल और स्टील, लेड डाइऑक्साइड एनोड के इलेक्ट्रोलाइटिक उपयोग के दौरान धीरे-धीरे घुल जाते हैं।
गांठदार जमाव रैखिक या छड़ के आकार के कोर या आधारों पर बनने की सबसे अधिक संभावना होती है। जब एक सपाट आयताकार एनोड की आवश्यकता होती है, तो स्क्रीन या विस्तारित धातु जाल के दोनों किनारों पर जमाव का गठन किया जा सकता है। इस मामले में, एनोड किनारे के चारों ओर बारीकी से दूरी वाले निष्क्रिय, गैर-प्रवाहकीय बाफ़ल तंग आयामी सहनशीलता के भीतर नोड्यूल-मुक्त जमा को बनाने की अनुमति देते हैं।

आवेदन

 

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1. क्रोमियम चढ़ाना, क्रोमिक एसिड जैसे मजबूत अम्लीय समाधानों में कठोर क्रोमियम चढ़ाना, और इस्पात उद्योग में टिन मुक्त पतली स्टील प्लेटों के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है।

 

2. क्रोमेट उपचार. स्टील प्लेट सतह उपचार, धातु उत्पाद क्रोमेट उपचार।

 

3. इलेक्ट्रोलिसिस द्वारा अकार्बनिक यौगिकों जैसे क्रोमिक एसिड, परक्लोरेट, पेरियोडेट आदि की तैयारी। अपशिष्ट जल को इलेक्ट्रोलाइटिक ऑक्सीकरण के माध्यम से शुद्ध किया जाता है ताकि रासायनिक ऑक्सीजन मांग (सीओडी) और जैविक ऑक्सीजन मांग (बीओडी) उत्सर्जन मानकों को पूरा कर सकें।

 

4. अचार और इलेक्ट्रोलिसिस द्वारा संश्लेषित कार्बनिक यौगिकों का इलेक्ट्रोलाइटिक ऑक्सीकरण।

 

5. ओजोन के इलेक्ट्रोलाइटिक उत्पादन के लिए उच्च ऑक्सीजन क्षमता वाले इलेक्ट्रोड सामग्रियों की आवश्यकता होती है।

 

6. अपशिष्ट जल उपचार. इलेक्ट्रोलाइटिक ऑक्सीकरण के माध्यम से सीओडी, बीओडी और अन्य कार्बनिक यौगिकों को शुद्ध करें।

क्या आप कोई सवाल पूछना चाहते हैं?

 

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सीसा का एनोड क्या है?

एक लेड{0}एसिड बैटरी में, कैथोड लेड-डाइऑक्साइड से बना होता है, और एनोड धात्विक लेड से बना होता है। दोनों इलेक्ट्रोडों को सल्फ्यूरिक एसिड के इलेक्ट्रोलाइट द्वारा अलग किया जाता है। जैसे ही बैटरी चार्ज होती है, सल्फ्यूरिक एसिड एनोड और कैथोड में लेड के साथ प्रतिक्रिया करके लेड सल्फेट का उत्पादन करता है।

 

लेड डाइऑक्साइड एनोड कैसे तैयार किया जाता है?

उदाहरण 1 में बताए अनुसार सब्सट्रेट के रूप में 1/2 इंच व्यास वाली ग्रेफाइट रॉड का उपयोग करके एक लेड डाइऑक्साइड एनोड बनाया जाता है। प्लेटिंग समाधान में निम्नलिखित संरचना होती है। एनोड को 1.0 ए/इंच के एनोड वर्तमान घनत्व पर चढ़ाया जाता है। 10 मिनट के लिए और उसके बाद 0.5 ए/इंच के वर्तमान घनत्व पर 50 मिनट के लिए प्लेटिंग करें।².

 

लीड एनोड क्यों है?

लीड एनोड का उपयोग आमतौर पर इलेक्ट्रो विनिंग कोशिकाओं के एक घटक के रूप में डिवाइस में रखने के लिए किया जाता है। इन उपकरणों में, एनोड उच्च घनत्व वाली विद्युत धाराओं का संचालन करते हैं, और उंगली जैसी छड़ों के रूप में आते हैं। इसके अतिरिक्त, सीसा एनोड समुद्री जल से होने वाले क्षरण के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी होते हैं।

 

एनोड का उत्पादन कैसे होता है?

एल्यूमीनियम गलाने की प्रक्रिया में उपयोग किए जाने वाले एनोड को पेट्रोलियम कोक को कोयला टार पिच (बाइंडर) के साथ मिलाकर एक आटे जैसी स्थिरता के साथ पेस्ट बनाकर बनाया जाता है। पुनर्चक्रित एनोड बट्स का उपयोग भराव समुच्चय के रूप में भी किया जाता है और कोक और पिच के मिश्रण में जोड़ा जाता है।

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