मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

1.मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य एक उच्च शुद्धता वाली मोलिब्डेनम धातु सामग्री है जिसका उपयोग विभिन्न फिल्म तैयारी क्षेत्रों में स्पटरिंग स्रोत के रूप में किया जाता है। तैयार फिल्म की गुणवत्ता और शुद्धता आवश्यकताओं को सुनिश्चित करने के लिए मोलिब्डेनम धातु स्पटरिंग लक्ष्य की शुद्धता को आम तौर पर 99.95% से अधिक तक पहुंचने की आवश्यकता होती है।
2. गलनांक: 2620 डिग्री
3.सतह: पॉलिश
4. आकार: अनुकूलित
उत्पाद विवरण

 

उच्च शुद्धता: 99.95% या उससे अधिक की शुद्धता की सामान्य आवश्यकता, उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य की ग्राहक आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित की जा सकती है।

अच्छी प्रक्रियाशीलता: मोलिब्डेनम को लक्ष्य के विभिन्न आकारों में संसाधित करना आसान है, जैसे प्लेट आकार, रोटरी सिलेंडर आकार, वर्गाकार इत्यादि।

अच्छा पहनने का प्रतिरोध: मोलिब्डेनम उच्च कठोरता, गर्मी प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध, विकृत करना आसान नहीं है, इसलिए मोलिब्डेनम लक्ष्य दीर्घकालिक स्थिर स्पटरिंग प्रभाव बनाए रख सकता है।

साफ करने में आसान: क्योंकि मोलिब्डेनम लक्ष्य के रासायनिक गुण स्वयं अधिक स्थिर होते हैं, ऑपरेशन के दौरान इसे साफ करना आसान होता है और अशुद्धता प्रदूषण कम होता है।

अनुकूलन योग्य: मोलिब्डेनम लक्ष्य के विनिर्देशों, आकार और आकार को विभिन्न तैयारी प्रक्रियाओं की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए ग्राहकों की विभिन्न आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है।

 

उत्पाद पैरामीटर

 

 

सामग्री

शुद्ध मोलिब्डेनम 99.95%

विशेष विवरण

मोलिब्डेनम लक्ष्य सामग्री को ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार संसाधित किया जा सकता है

निवेदन स्थान

1, वैक्यूम कोटिंग 2, कांच उद्योग

 

 

चित्र विवरण प्रदर्शन

 

 

Molybdenum Sputtering Target process
Molybdenum Sputtering Target in stock

 

Molybdenum Sputtering Target price
Molybdenum Sputtering Target For Sale

 

 

उत्पाद व्यवहार्यता

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला के साथ एक महत्वपूर्ण सामग्री है।

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक घटकों, सौर कोशिकाओं, टच स्क्रीन, नैनोमटेरियल्स आदि में किया जाता है। विशेष रूप से, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग इलेक्ट्रॉनिक घटकों के लिए इसके उत्कृष्ट इन्सुलेशन, थर्मल चालकता और संक्षारण प्रतिरोध के कारण किया जाता है, जो प्रदर्शन और विश्वसनीयता में सुधार करने में मदद करता है। उपकरण। मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य भी सौर कोशिकाओं को बनाने के लिए एक महत्वपूर्ण सामग्री है, जो सौर कोशिकाओं में बैक इलेक्ट्रोड के रूप में कार्य करता है। इसके अलावा, इसका उपयोग टच स्क्रीन में उच्च-परिभाषा और उच्च-संवेदनशीलता स्पर्श प्रभाव प्राप्त करने के लिए किया जाता है, टैबलेट पीसी, स्मार्टफोन, इलेक्ट्रॉनिक पुस्तकों आदि में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, जिससे उपयोगकर्ताओं को अधिक सुविधाजनक संचालन अनुभव मिलता है। इसके अलावा, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य-निर्मित नैनोमटेरियल्स का व्यापक रूप से बायोमेडिसिन, रासायनिक उत्प्रेरक, इलेक्ट्रोकेमिकल ऊर्जा भंडारण आदि में उपयोग किया जा सकता है। उदाहरण के लिए, मोलिब्डेनम नैनोफिल्म्स का उपयोग जैविक पहचान की संवेदनशीलता और विशिष्टता में सुधार के लिए बायोसेंसर के रूप में किया जा सकता है। आधुनिक उच्च तकनीक क्षेत्रों में एक महत्वपूर्ण सामग्री के रूप में, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य कार्यात्मक, उच्च प्रदर्शन और पर्यावरण संरक्षण की दिशा में विकसित हो रहा है, जो नवीन विज्ञान और प्रौद्योगिकी की प्रक्रिया को आगे बढ़ा रहा है।

 

उत्पादन प्रक्रिया

 

Molybdenum processing workpiece production flow chart

 

सामान्य प्रश्न

 

प्रश्न: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य क्या है?

ए: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य एक सब्सट्रेट पर मोलिब्डेनम की पतली फिल्मों का उत्पादन करने के लिए भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) की प्रक्रिया में उपयोग की जाने वाली सामग्री है। यह शुद्ध मोलिब्डेनम का एक ठोस टुकड़ा है जिसे स्पटरिंग मशीन में उपयोग के लिए वांछित आकार दिया जाता है।

प्रश्न: मोलिब्डेनम लक्ष्य का उत्पादन कैसे किया जाता है?

ए: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य एक जटिल प्रक्रिया के माध्यम से उत्पादित किया जाता है जिसमें पिघलने, कास्टिंग, फोर्जिंग, मशीनिंग और पॉलिशिंग सहित कई चरण शामिल होते हैं। प्रारंभिक चरण में कच्चे मोलिब्डेनम को पिघलाने और इसे एक सांचे में डालने के लिए वैक्यूम इंडक्शन भट्टी का उपयोग करना शामिल है। परिणामी पिंड को अंतिम स्पटरिंग लक्ष्य बनाने के लिए फोर्जिंग, मशीनिंग और पॉलिशिंग के कई दौरों के अधीन किया जाता है।

प्रश्न: मोलिब्डेनम लक्ष्य का उपयोग करने के क्या लाभ हैं?

ए: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य पीवीडी अनुप्रयोगों के लिए कई लाभ प्रदान करता है, जिसमें उत्कृष्ट तापीय और विद्युत चालकता, उच्च पिघलने बिंदु, संक्षारण प्रतिरोध और कम स्पटरिंग दर शामिल हैं। यह अत्यधिक शुद्ध और एकसमान भी है, जिससे लगातार फिल्म का जमाव होता है।

प्रश्न: कौन से उद्योग मोलिब्डेनम लक्ष्य का उपयोग करते हैं?

उत्तर: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग सेमीकंडक्टर से लेकर फोटोवोल्टिक से लेकर आर्किटेक्चर तक उद्योगों की एक विस्तृत श्रृंखला में किया जाता है। यह कंप्यूटर चिप्स, एलईडी लाइट और सौर सेल जैसे इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के उत्पादन में विशेष रूप से महत्वपूर्ण है।

प्रश्न: मैं मोलिब्डेनम लक्ष्य की गुणवत्ता कैसे सुनिश्चित कर सकता हूं?

ए: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए, एक विश्वसनीय निर्माता चुनना महत्वपूर्ण है जो उच्च गुणवत्ता वाले कच्चे माल और सख्त गुणवत्ता नियंत्रण प्रक्रियाओं का उपयोग करता है। इसके अलावा, क्षति और संदूषण को रोकने के लिए लक्ष्य को ठीक से संभालना और संग्रहीत करना महत्वपूर्ण है। अंत में, नियमित निरीक्षण और परीक्षण किसी भी समस्या की पहचान करने और इष्टतम प्रदर्शन सुनिश्चित करने में मदद कर सकते हैं।
संपर्क करें

दूरभाष: +86 15596885501 लिसा यांग

+86 18700703333 एल्सा लिन

 

फैक्स: 0917-3381186

 

Email : lisayang@ehisen-anode.com

admin@ehisen-anode.com

जोड़ें: नंबर 28, गाओया औद्योगिक पार्क, गाओक्सिन जिला, बाओजी शहर, शानक्सी प्रांत

20231211150808

 

लोकप्रिय टैग: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य, चीन मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य निर्माता, आपूर्तिकर्ता, कारखाने

जांच भेजें